A method of forming (and apparatus for forming) refractory metal oxide
layers, such as tantalum pentoxide layers, on substrates by using vapor
deposition processes with refractory metal precursor compounds and ethers.
Un método de formar (y de aparato para formar) capas refractarias del óxido de metal, tales como capas del pentoxide del tantalio, en los substratos usando procesos de la deposición del vapor con los compuestos y los éteres refractarios del precursor del metal.
