A hydrogen permselective membrane, a method of forming a permselective
membrane and an apparatus comprising a permselective membrane, a porous
substrate and an optional intermediate layer are described. Using chemical
vapor deposition (CVD) at low reactant gas concentration, high
permselectivities are achieved with minimal reduction in hydrogen
permeance.
Une membrane permselective d'hydrogène, une méthode de former une membrane permselective et un appareil comportant une membrane permselective, un substrat poreux et une couche intermédiaire facultative sont décrits. En utilisant la déposition en phase vapeur (CVD) à la basse concentration en gaz de réactif, de hauts permselectivities sont réalisés avec la réduction minimale du permeance d'hydrogène.
