1T1R resistive memory

   
   

A drain loaded 1T1R resistive memory device and 1T1R resistive memory array are provided. The resistive memory array comprises an array of drain loaded 1T1R resistive memory device structures. Word lines are connected across transistor gates, while a resistive elements are connected between transistor gates and bit lines. The resistive element comprises a material with a resistance that is changed electrically, for example using a sequence of electric pulses. The resistive element may comprise PCMO.

Un bloc de mémoires 1T1R résistif chargé par drain et une rangée résistive de la mémoire 1T1R sont fournis. La rangée résistive de mémoire comporte une rangée des structures résistives chargées par drain de bloc de mémoires 1T1R. Des lignes de mot sont reliées à travers des portes de transistor, alors que des éléments résistifs sont reliés entre les portes de transistor et mordaient des lignes. L'élément résistif comporte un matériel avec une résistance qui est changée électriquement, par exemple employant un ordre des impulsions électriques. L'élément résistif peut comporter PCMO.

 
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< CMOS device on ultrathin SOI with a deposited raised source/drain, and a method of manufacture

< Semiconductor device and method of manufacturing the same

> High-voltage transistor with multi-layer conduction region

> Photodetector matrix with pixels isolated by walls, hybridized onto a reading circuit

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