A semiconductor wafer including an NMOS device and a PMOS device. The NMOS device is formed to have a high-K gate dielectric and the PMOS device is formed to have a standard-K gate dielectric. A method of forming the NMOS device and the PMOS device is also disclosed.

Une gaufrette de semi-conducteur comprenant un dispositif de NMOS et un dispositif de PMOS. Le dispositif de NMOS est formé pour avoir un haut-K diélectrique de porte et le dispositif de PMOS est formé pour avoir un diélectrique standard-K de porte. Une méthode de former le dispositif de NMOS et le dispositif de PMOS est également révélée.
 
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