A cleaning method for a quartz substrate includes mixing a rinsing solution and mixing a cleaning solution such that the solutions are electrically conductive. The rinsing solution is carbonated and is used in more than one step within the method. The cleaning solution includes ammonium hydroxide. As a result of the electrical conductivity of the solutions, the cleaning method is less susceptible to surface damage caused by electrostatic discharge. The sequence of steps includes rinsing the quartz substrate with the carbonated rinsing solution, removing loose contaminants by a high pressure application of the cleaning solution, and removing organic contaminants in a strong oxidation environment using a solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide. The carbonated rinsing solution is again applied, followed by another high pressure application of the cleaning solution and a final rinse with the carbonated rinsing solution. In the preferred embodiment, the cleaned quartz substrate is used to form a laser ablation mask by depositing dielectric layers that are patterned to define an exposure pattern. In the most preferred embodiment, the laser ablation mask is used in the fabrication of inkjet printheads.

Eine Reinigungsmethode für ein Quarzsubstrat schließt das Mischen einer ausspülenden Lösung und das Mischen einer Reinigung Lösung so mit ein, daß die Lösungen elektrisch leitend sind. Die ausspülende Lösung ist gekohlt und wird in mehr als einem Schritt innerhalb der Methode verwendet. Die Reinigung Lösung schließt Ammoniumhydroxid mit ein. Resultierend aus der elektrischen Leitfähigkeit der Lösungen, ist die Reinigungsmethode gegen die Oberflächenbeschädigung weniger empfindlilch, die durch elektrostatische Entladung verursacht wird. Die Reihenfolge von Schritten schließt das Ausspülen des Quarzsubstrates mit der gekohlten ausspülenden Lösung, das Entfernen der losen verunreiniger durch eine Hochdruckanwendung der Reinigung Lösung und das Entfernen der organischen verunreiniger in einem starken Oxidation Klima mit einer Lösung der Schwefelsäure und des Wasserstoffperoxids mit ein. Die gekohlte ausspülende Lösung wird wieder angewendet, gefolgt durch eine andere Hochdruckanwendung der Reinigung Lösung und des abschließenden Spülens mit der gekohlten ausspülenden Lösung. In der bevorzugten Verkörperung wird das gesäuberte Quarzsubstrat benutzt, um eine Laser Entfernung Schablone zu bilden durch niederlegende dielektrische Schichten, die patterned, um ein Belichtung Muster zu definieren. In der bevorzugten Verkörperung wird die Laser Entfernung Schablone in der Herstellung von Tintenstrahl printheads benutzt.