A specified amount of N.sub.2 O or N.sub.2 is employed in a process gas of
a DC magnetron for sputter depositing single or laminated films of
NiFeCo--O--N or NiFeCo--N with a high uniaxial anisotropy H.sub.K after
annealing these films along their hard axes. The films can be used for
shield layers and/or pole piece layers in a magnetic head.
Una quantità specificata di N.sub.2 O o di N.sub.2 è impiegata in un gas trattato di un magnetron di CC per polverizza depositare le singole o pellicole laminate di NiFeCo -- O -- N o di NiFeCo -- N con un'alta anisotropia monoassiale H.sub.K dopo la tempera delle queste pellicole lungo le loro ascie dure. Le pellicole possono essere usate per gli strati dello schermo e/o gli strati della parte del palo in una testa magnetica.
