Polymers and photoresist compositions comprising same

   
   

The invention includes polymers that contain a polymers of the invention contain one or more 1) carbonate units and/or 2) a lactone provided by a monomer having a ring oxygen adjacent to the monomer vinyl group. The invention also provides photoresists that contain such polymers, particularly for imaging at short wavelengths such as sub-200 nm.

De uitvinding omvat polymeren die polymeren van de uitvinding bevatten één of meerdere 1) carbonaateenheden en/of 2) lactone bevatten die door een monomeer wordt verstrekt dat een ringszuurstof naast de monomeer vinylgroep heeft. De uitvinding verstrekt ook photoresists die dergelijke polymeren, in het bijzonder voor weergave bij korte golflengten zoals sub-200 NM bevatten.

 
Web www.patentalert.com

< Heat-softening heat-radiation sheet

< Photoresist monomers, polymers thereof and photoresist compositions containing the same

> Photosensitive polymers, resist compositions comprising the same, and methods for forming photoresistive patterns

> Copolymers and photoresist compositions comprising same

~ 00158