A resist composition includes a photoacid generator (PAG) and a
photosensitive polymer. The photosensitive polymer includes a comonomer
having an acid-labile substituent group or a polar functional group, and a
copolymer of alkyl vinyl ether and maleic anhydride. The copolymer is
represented by the following structure:
##STR1##
where k is an integer of 3 to 8, and where X is tertiary cyclic alcohol
having 7 to 20 carbon atoms.
Una composición del resistir incluye un generador del photoacid (PAG) y un polímero fotosensible. El polímero fotosensible incluye un comonomer que tiene un grupo a'cido-acid-labile del sustituto o un grupo funcional polar, y un copolímero del éter alkyl del vinilo y del anhídrido maleic. El copolímero es representado por la estructura siguiente: ## del ## STR1 donde está un número entero k de 3 a 8, y donde está alcohol X cíclico terciario que tiene 7 a 20 átomos de carbón.
