A method for treating waste gas containing PFC and/or HFC, comprising
contacting a mixture of gas waste containing PFC and/or HFC, ozone, and
water with an iron oxide catalyst at a temperature between 50 and
300.degree. C. by gas-solid contact to perform an oxidation reaction for
reducing the amount of PFC and/or HFC. An apparatus for treating waste gas
containing PFC or HFC is also provided. The operational temperature in the
present invention is much lower than the prior art, and thus provides
lower energy consumption and little risk of fire. The present invention is
suitable for the treatment of waste gas containing PFC and/or HFC,
especially for the removal of perfluorocompounds from the waste gas
generated by semiconductor and photoelectrical product manufacturing
plants.
Метод для обрабатывать неныжный газ содержа PFC and/or HFC, состоя из контактирующ смесь газа неныжных содержа PFC and/or HFC, озон, и воду с катализатором окиси утюга на температуре между 50 и 300.degree. C gas-solid контактом для того чтобы выполнить реакцию оксидации для уменьшения количества PFC and/or HFC. Прибор для обрабатывать неныжный газ содержа PFC или HFC также обеспечен. Рабочая температура в присытствыющем вымысле гораздо низкее чем прежнее искусствоо, и таким образом обеспечивает более низкое потребление энергии и меньший риск пожара. Присытствыющий вымысел целесообразн для обработки неныжного газа содержа PFC and/or HFC, специально для удаления perfluorocompounds от неныжного газа произведенного полупроводником и светоэлектрическими промышленными предприятиями продукта.
