Line selected F2 two chamber laser system

   
   

An injection seeded modular gas discharge laser system capable of producing high quality pulsed laser beams at pulse rates of about 4,000 Hz or greater and at pulse energies of about 5 mJ or greater. Two separate discharge chambers are provided, one of which is a part of a master oscillator producing a very narrow band seed beam which is amplified in the second discharge chamber. The chambers can be controlled separately permitting separate optimization of wavelength parameters in the master oscillator and optimization of pulse energy parameters in the amplifying chamber. A preferred embodiment in a F.sub.2 laser system configured as a MOPA and specifically designed for use as a light source for integrated circuit lithography. In the preferred MOPA embodiment, each chamber comprises a single tangential fan providing sufficient gas flow to permit operation at pulse rates of 4000 Hz or greater by clearing debris from the discharge region in less time than the approximately 0.25 milliseconds between pulses. The master oscillator is equipped with a line selection package for selecting the strongest F.sub.2 spectral line.

Впрыска осеменила модульную систему лазера разрядки газа способную производить высокое качество пульсировала лазерныйа луч на тарифы ИМПА ульс около 4.000 герц или большой и на энергии ИМПА ульс mJ около 5 или больш. 2 отдельно камеры разрядки обеспечены, одно из которой будет частью мастерского генератора производящ очень узкий луч семени полосы который усилен в второй камере разрядки. Камеры можно контролировать отдельно позволяющ отдельно оптимизирование параметров длины волны в мастерском генераторе и оптимизирование параметров энергии ИМПА ульс в усиливаясь камере. Предпочитаемое воплощение в системе лазера F.sub.2 установленной как MOPA и специфически конструированной для пользы как источник света для литографирования интегрированной цепи. В предпочитаемом воплощении MOPA, каждая камера состоит из одиночного касательного вентилятора обеспечивая достаточно подачу газа для того чтобы позволить деятельность на тарифах ИМПА ульс 4000 герц или больш путем освобождать твердые частицы от зоны разрядки в меньше времени чем приблизительно 0.25 миллисекунды между ИМПАМИ ульс. Мастерский генератор оборудован с пакетом выбора линии для выбирать самую сильную спектральную линию F.sub.2.

 
Web www.patentalert.com

< Apparatus for and method of measuring surface shape of an object

< Laser diode, optical pickup device, optical disk apparatus, and optical communications equipment

> Wavelength monitoring device and method of tunable laser sources

> Optical semiconductor device having an active layer containing N

~ 00136