A film thickness measuring apparatus capable of restricting a measurement
area on the surface of a sample is provided. An incident optical system
provides an irradiating polarized light to the surface of the sample. A
detecting optical system receives the reflected light having an elliptical
polarization and provides a reduced aperture that can restrict the light
provided through a fiber optic conduit to a spectrometer and thereby
eliminate aberrations and noise problems.
Uno strumento di misura di spessore di pellicola capace di limitazione della zona di misura sulla superficie di un campione è fornito. Un sistema ottico di avvenimento fornisce una luce polarizzata d'irradiazione alla superficie del campione. Un sistema ottico di rilevazione riceve la luce riflessa che ha una polarizzazione ellittica e fornisce un'apertura ridotta che può limitare la luce fornita tramite un condotto ottico della fibra ad uno spettrometro e quindi eliminare le aberrazioni ed i problemi di rumore.
