An apparatus for processing a semiconductor wafer or similar article
includes a reactor having a processing chamber formed by upper and lower
rotors. The wafer is supported between the rotors. The rotors are rotated
by a spin motor. A processing fluid is introduced onto the top or bottom
surface of the wafer, or onto both surfaces, at a central location. The
fluid flows outwardly uniformly and in all directions. A wafer support
automatically lifts the wafer, so that it can be removed from the reactor
by a robot, when the rotors separate from each other after processing.
Un aparato para procesar una oblea o un artículo similar de semiconductor incluye un reactor que hace un compartimiento de proceso formar por los rotores superiores y más bajos. La oblea se apoya entre los rotores. Los rotores son rotados por un motor de la vuelta. Un líquido de proceso se introduce sobre el fondo superior o de la oblea, o sobre ambas superficies, en una localización central. Los flujos del líquido exterior uniformemente y en todas las direcciones. Una ayuda de la oblea levanta automáticamente la oblea, para poderla quitar del reactor por una robusteza, cuando los rotores a parte de uno a después de procesar.
