Chemical solutions methods for processing semiconductor materials

   
   

A semiconductor processing system has a liquid chemical metering and delivery system including a process tank and a metering vessel. Fluid level detectors detect the fluid level in the process tank and metering vessel. A two stage fill valve fills the metering vessel from bottom to top. A dispense valve dispenses the metered contents of the vessel into a process tank via gravity, to form a chemical solution in the process tank, with high mixing accuracy. The volumes of the metering vessel and process tank and the inflow and outflow rates are set to provide 100% up time to a process chamber which uses the chemical solution to process semiconductor wafers or other flat media.

Een systeem van de halfgeleiderverwerking heeft een vloeibaar chemisch het meten en leveringssysteem met inbegrip van een procestank en een metend schip. De vloeibaar niveaudetectors ontdekken het vloeibare niveau in de procestank en het metende schip. Een vullingsklep in twee stadia vult het metende schip vanaf volledig. Een verdeelklep deelt de gemeten inhoud van het schip in een procestank via uit ernst, om een chemische oplossing in de procestank, met hoogte te vormen mengt nauwkeurigheid. De volumes van de metende schip en procestank en de toevloed en afvloeiingstarieven worden geplaatst om 100% op tijd aan een proceskamer te verstrekken die de chemische oplossing gebruikt om halfgeleiderwafeltjes of andere vlakke media te verwerken.

 
Web www.patentalert.com

< Single workpiece processing system

< Reactor for processing a semiconductor wafer

> Electrochemical processing method

> Method for processing the surface of a workpiece

~ 00112