Disclosed is a positive photoresist composition comprising (A) a compound
capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or
radiation and (B) a resin capable of decomposing under the action of an
acid to increase the solubility in alkali, containing a repeating unit
having a group represented by the following formula (I):
##STR1##
wherein R.sub.1 represents hydrogen atom or an alkyl group having from 1 to
4 carbon atoms, which may have a substituent, R.sub.1 to R.sub.7, which
may be the same or different, each represents hydrogen atom, an alkyl
group which may have a substituent, a cycloalkyl group which may have a
substituent or an alkenyl group which may have a substituent, provided
that at least one of R.sub.6 and R.sub.7 is a group exclusive of hydrogen
atom and R.sub.6 and R.sub.7 may combine to form a ring, and m and n each
independently represents 0 or 1, provided that m and n are not 0 at the
same time. The positive photoresist composition can further comprise a
fluorine-containing and/or silicon-containing surfactant and at least one
first solvent selected from propylene glycol monomethyl ether acetate,
propylene glycol monomethyl ether propionate, methyl 3-methoxypropionate,
ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate and
3-ethoxypropionate.
Показан положительный состав фоторезиста состоя из (A) смеси способной производить кислоту на облучении с актиничными лучами или радиацией и (B) смолаы способной разлагать под действием кислоты для того чтобы увеличить растворимость в алкалие, содержа блок имея группу быть представленным following формулой (i): ## ## STR1 при котором R.sub.1 представляет атом водопода или алкиловую группу имея от от 1 до 4 атома углерода, который могут иметь заместитель, R.sub.1 к R.sub.7, которое может быть этим же или друг, каждое представляет атом водопода, алкиловую группу которая может иметь заместитель, группу cycloalkyl которая может иметь заместитель или алкенильная группа которая может иметь заместитель, provided that по крайней мере одно из R.sub.6 и R.sub.7 будет группой исключительной атома водопода и R.sub.6 и R.sub.7 могут совместить для того чтобы сформировать кольцо, и м и н каждое независимо представляют 0 или 1, provided that м и н не 0 в то же самое время. Положительный состав фоторезиста может более далее состоять из fluorine-containing and/or кремни-soderja сурфактанта и по крайней мере одного первого растворителя выбранных от ацетата эфира гликоля пропилена монометилового, пропионата эфира гликоля пропилена монометилового, метилового 3-methoxypropionate, этила 3-methoxypropionate, метилового 3-ethoxypropionate и 3-ethoxypropionate.
