Imaging optical system and exposure apparatus

   
   

An imaging optical system may be capable of forming substantially in one or more second planes one or more complete and/or partial images of one or more objects arranged substantially in one or more first planes and may comprise one or more entrance pupils, at least one of which is located substantially on an opposite side of at least one of the first plane or planes from the imaging optical system exclusive of the at least one entrance pupil so located. Such imaging optical system may be constructed so as to be substantially telecentric on at least a same side thereof as at least one of the second plane or planes. Such imaging optical system may be such that all of the reflective surface or surfaces of the imaging optical system are located in one or more spaces substantially between at least one of the first plane or planes and at least one of the second plane or planes, inclusive, and/or such imaging optical system may further comprise one or more locations disposed in one or more optical paths from at least one of the first plane or planes to at least one of the second plane or planes, inclusive, and substantially optically conjugate to at least one of the first plane or planes.

Een weergave optisch systeem kan kunnen in één of meerdere tweede vliegtuigen één of meerdere volledige en/of gedeeltelijke beelden van één of meerdere voorwerpen wezenlijk vormen die wezenlijk in één of meerdere eerste vliegtuigen worden geschikt en kan uit één of meerdere ingangsleerlingen bestaan, minstens één waarvan wezenlijk aan een tegenovergestelde kant van minstens één van het eerste vliegtuig of de vliegtuigen van het weergave optische systeem exclusief van de minstens één zo gevestigde ingangsleerling wordt gevestigd. Dergelijk weergave optisch systeem kan wezenlijk telecentric worden geconstrueerd om aan minstens een zelfde kant te zijn daarvan zoals minstens één van het tweede vliegtuig of de vliegtuigen. Dergelijk weergave optisch systeem kan zijn dusdanig dat de elk van weerspiegelende oppervlakte of oppervlakten van het weergave optische systeem in één of meerdere ruimten wezenlijk tussen minstens één van het eerste vliegtuig of de vliegtuigen en minstens één van het tweede vliegtuig of vliegtuigen worden gevestigd, inclusief, en/of dergelijk weergave optisch systeem uit één of meerdere plaatsen kan verder bestaan die in één of meerdere optische wegen van minstens één van het eerste vliegtuig of de vliegtuigen aan minstens één van het tweede vliegtuig worden geschikt of de vliegtuigen, inclusief, en wezenlijk optisch stamverwant aan minstens één van het eerste vliegtuig of de vliegtuigen.

 
Web www.patentalert.com

< Liquid crystal display and method of manufacturing the same

< Phase-shift photomask for patterning high density features

> Curable adhesive compositions

> Method for producing (1R,4S)-2-azabicyclo[2.2.1]-hept-5-en-3-on derivatives

~ 00128