Method for the deposition of materials from mesomorphous films

   
   

A photoresist-free method for making patterned films of metal oxides, metals, or other metal containing compounds is described. The method involves applying a thin film coating of a metal complex, resulting in the formation of a liquid crystal film. This film can be photolyzed resulting in a chemical reaction which deposits a metal or metal oxide film. The metal complex used is photoreactive and undergoes a chemical reaction in the presence of light of a suitable wavelength. The end product of the reactions depends upon the atmosphere in which the reactions take place. Metal oxide films may be made in air. Patterned films may be made by exposing only selected portions of the film to light. Patterns of two or more materials may be laid down from the same film by exposing different parts of the film to light in different atmospheres.

Un método photoresist-libre para hacer las películas modeladas de los óxidos de metal, de los metales, o del otro metal que contiene compuestos se describe. El método implica el aplicar de una capa de la película fina de un complejo del metal, dando por resultado la formación de una película cristalina líquida. Esta película puede ser photolyzed dando por resultado una reacción química que deposite una película del metal o del óxido de metal. El complejo del metal usado es photoreactive y experimenta una reacción química en la presencia de la luz de una longitud de onda conveniente. El producto final de las reacciones depende de la atmósfera en la cual las reacciones ocurren. Las películas del óxido de metal se pueden hacer en aire. Las películas modeladas pueden ser hechas exponiendo solamente las porciones seleccionadas de la película para encenderse. Los patrones de dos o más materiales se pueden colocar de la misma película exponiendo diversas partes de la película a la luz en diversas atmósferas.

 
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