Systems and methods of modeling a best-guess semiconductor process flow for
fabricating a desired semiconductor device are provided. The best-guess
process flow is modeled using an inverse modeling technique. This
technique reverse engineers a desired semiconductor device to synthesize a
model of a fabrication process that is likely to produce the desired
semiconductor device. First, a desired device having one or more desired
characteristics is modeled. Then, various process and material parameters,
constraints, and actual measured data are used to synthesize one or more
unique software models that represent a process flow likely to fabricate
the desired device. If more than one process flow is modeled, various
parameters are modified iteratively until a unique process flow model is
synthesized.
Os sistemas e os métodos de modelar melhor-supõem que fluxo do processo do semicondutor para fabricar um dispositivo de semicondutor desejado está fornecido. Melhor-suponha que o fluxo process está modelado usando uma técnica modelando inversa. Este reverso da técnica projeta um dispositivo de semicondutor desejado synthesize um modelo de um processo da fabricação que seja provável produzir o dispositivo de semicondutor desejado. Primeiramente, um dispositivo desejado que tem aquele ou mais desejou características é modelado. Então, os vários parâmetros process e materiais, os confinamentes, e os dados medidos reais são usados synthesize um ou mais modelo original do software que representam um fluxo process provavelmente para fabricar o dispositivo desejado. Se mais de um fluxo process for modelado, os vários parâmetros estão modificados iterativa até que um modelo process original do fluxo synthesized.
