Method and apparatus for resolving conflicts in a substrate processing system

   
   

A wafer track and lithography cluster tool for performing a series of processes with a scheduler which synchronizes all events in a substrate processing system. Events in the cluster tool are scheduled to occur at regular, periodic intervals, thereby improving throughput and quality. The scheduler also eliminates conflicts for transportation resources between modules in the cluster tool. Wafers are loaded into the cluster tool at a regular interval, referred to as a sending period. All events in the system are synchronized with the sending period, and all event timings are normalized in terms of the sending period. The conflicts are resolved by selectively adding delays in modules which can tolerate them without degrading throughput or performance in the system; modules that cannot tolerate delays are exempted. The periodicity of the scheduled cluster tool enables the identification of wafers in the cluster tool. The identification of the order in which a wafer was loaded also identifies a module path followed by the wafer.

Μια διαδρομή και μια λιθογραφία γκοφρετών συγκεντρώνονται το εργαλείο για μια σειρά διαδικασιών με έναν χρονοπρογραμματιστή που συγχρονίζει όλα τα γεγονότα σε ένα σύστημα επεξεργασίας υποστρωμάτων. Τα γεγονότα στο εργαλείο συστάδων σχεδιάζονται για να εμφανιστούν σε κανονικά, περιοδικά διαστήματα, με αυτόν τον τρόπο βελτιώνοντας τη ρυθμοαπόδοση και την ποιότητα. Ο χρονοπρογραμματιστής αποβάλλει επίσης τις συγκρούσεις για τους πόρους μεταφορών μεταξύ των ενοτήτων στο εργαλείο συστάδων. Οι γκοφρέτες φορτώνονται στο εργαλείο συστάδων σε ένα τακτό χρονικό διάστημα, καλούμενο μια περίοδος αποστολής. Όλα τα γεγονότα στο σύστημα είναι συγχρονισμένα με την περίοδο αποστολής, και όλοι οι συγχρονισμοί γεγονότος είναι ομαλοποιημένοι από την άποψη της περιόδου αποστολής. Οι συγκρούσεις επιλύονται με επιλεκτικά να προσθέσουν τις καθυστερήσεις στις ενότητες που μπορούν να τις ανεχτούν χωρίς την υποβιβάζοντας ρυθμοαπόδοση ή απόδοση στο σύστημα οι ενότητες που δεν μπορούν να ανεχτούν τις καθυστερήσεις είναι απαλλαγμένες. Η περιοδικότητα του σχεδιασμένου εργαλείου συστάδων επιτρέπει τον προσδιορισμό των γκοφρετών στο εργαλείο συστάδων. Ο προσδιορισμός της διαταγής στην οποία μια γκοφρέτα φορτώθηκε επίσης προσδιορίζει μια πορεία ενότητας που ακολουθείται από την γκοφρέτα.

 
Web www.patentalert.com

< Apparatus for examining documents

< X-ray image enhancement

> Synchrotron-based EUV lithography illuminator simulator

> Iterative method for region-of-interest reconstruction

~ 00122