Analytical method and apparatus

   
   

A method of examining thin layer structures on a surface for differences in respect of optical thickness, which method comprises the steps of: irradiating the surface with light so that the light is internally or externally reflected at the surface; imaging the reflected light on a first two-dimensional detector; sequentially or continuously scanning the incident angle and/or wavelength of the light over an angular and/or wavelength range; measuring the intensities of light reflected from different parts of the surface and impinging on different parts of the detector, at at least a number of incident angles and/or wavelengths, the intensity of light reflected from each part of the surface for each angle and/or wavelength depending on the optical thickness of the thin layer structure thereon; and determining from the detected light intensities at the different light incident angles and/or wavelengths an optical thickness image of the thin layer structures on the surface. According to the invention, part of the light reflected at said surface is detected on a second detector to determine the incident angle or wavelength of the polarized light irradiating the surface. An apparatus for carrying out the method is also disclosed.

Een methode om structuren thin.layer op een oppervlakte voor verschillen met betrekking tot optische dikte te onderzoeken, welke methode uit de stappen van bestaat: het bestralen van de oppervlakte met licht zodat het licht intern of uiterlijk wordt weerspiegeld aan de oppervlakte; weergave het weerspiegelde licht op een eerste tweedimensionale detector; opeenvolgend of onophoudelijk aftastend de inherente hoek en/of de golflengte van het licht over een hoekige en/of golflengtewaaier; metend de intensiteit van licht die van verschillende delen van de oppervlakte wordt weerspiegeld en beïnvloedend op verschillende delen van de detector, bij minstens een aantal inherente hoeken en/of golflengten, intensiteit van licht die van elk deel van de oppervlakte voor elke hoek daarop wordt weerspiegeld en/of golflengte afhankelijk van de optische dikte van de structuur thin.layer; en bepalend van de ontdekte lichtintensiteit bij de verschillende lichte inherente hoeken en/of de golflengten structureert een optisch diktebeeld van thin.layer op de oppervlakte. Volgens de uitvinding, wordt een deel van het licht dat aan bovengenoemde oppervlakte wordt weerspiegeld ontdekt op een tweede detector om de inherente hoek of de golflengte van het gepolariseerde licht te bepalen bestralend de oppervlakte. Een apparaat om de methode wordt uit te voeren ook onthuld.

 
Web www.patentalert.com

< Method and device for measuring thickness of liquid crystal layer

< Method of determining an illuminated surface

> Surface plasmon resonance sensor

> Polarization analysis unit, calibration method and optimization therefor

~ 00106