Scanning projection exposure apparatus

   
   

A scanning projection exposure apparatus which has a first movable stage which moves with a first object being placed thereon, and a second movable stage which moves with a second object being placed thereof. The projection exposure apparatus scans the first and second movable stages in synchronism with each other with respect to a projection optical system, and projects a pattern formed on the first object onto the second object through the projection optical system. The apparatus includes a reference plate fixed to the first movable stage and having a mark, which is a reference for measuring deformation of the first object occurring due to exposure of the first object to exposure light, a mark, which is formed on the first object, for measuring deformation, and a detection system for detecting a position of the mark formed on the reference plate and a position of the mark formed on the first object. A deformation amount of the first object is obtained based on the position of the mark formed on the first object with respect to a reference position serving as the position of the mark formed on the reference plate, which are detected by the detection system.

Прибор выдержки проекции скеннирования имеет первый подвижной этап двигает при первый предмет будучи помещанным thereon, и второй подвижной этап который двигает при второй предмет будучи помещанным thereof. Прибор выдержки проекции просматривает первые и вторые подвижные этапы в синхронизме с собой по отношению к системе проекции оптически, и проектирует картину сформированную на первом предмете на второй предмет через систему проекции оптически. Прибор вклюает плиту справки зафиксированную к первому подвижному этапу и иметь меткой, которая будет справка для измеряя деформации первый происходить предмета должный к выдержке первого предмета к свету выдержки, метки, которая сформирована на первом предмете, для измеряя деформации, и системе обнаружения для обнаруживать положение сформированной метки на плите справки и положение сформированной метки на первом предмете. Получено количество деформации первого предмета основало на положении метки сформированной на первом предмете по отношению к сервировке положения справки как положение сформированной метки на плите справки, который обнаружены системой обнаружения.

 
Web www.patentalert.com

< Semiconductor memory device

< Digital camera with optical viewfinder and method of using same to visualize optical and digital zoom effects

> Method and apparatus for substrate surface inspection using spectral profiling techniques

> Path to trapezoid decomposition of polygons for printing files in a page description language

~ 00101