Ferroelectric memory integrated circuit with improved reliability

   
   

An IC with memory cells arranged in a chained architecture is disclosed. The top local interconnect between the top capacitor electrodes and active area is achieved by using a strap. The use of a strap eliminates the need for additional metal layer which reduces manufacturing costs. Furthermore, sidewall spacers are used to isolate the strap from the different layers of the capacitors. The use of spacers advantageously enables the strap to be self-aligned.

Un IC con le cellule di memoria ha organizzato in un'architettura concatenata è rilevato. L'interconnessione locale superiore fra gli elettrodi superiori del condensatore e la zona attiva è realizzata usando una cinghia. L'uso di una cinghia elimina l'esigenza dello strato supplementare del metallo che riduce i costi di manufacturing. Ancora, i distanziatori del muro laterale sono usati per isolare la cinghia dagli strati differenti dei condensatori. L'uso dei distanziatori permette vantaggiosamente alla cinghia auto-di essere allineato.

 
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< Stress control of semiconductor microstructures for thin film growth

< Polysilicon capacitor having large capacitance and low resistance

> Semiconductor memory having a pillar type trench dram cell

> Semiconductor device and method for manufacturing the same

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