Scanning exposure method and apparatus, and device manufacturing method using the same

   
   

A scan type exposure for transferring a pattern onto a substrate by scan exposure. The apparatus includes a stage for moving the substrate in a Y direction corresponding to a scan direction, and in an X direction intersecting the scan direction, an alignment scope for performing measurement for alignment of the substrate, at a position spaced, in the Y direction, from a position where the exposure of the substrate is to be carried out, an X measuring device for performing yaw measurement of said stage by use of an X reflection surface provided on said stage along the Y direction, a Y measuring device for performing yaw measurement of the stage by use of a Y reflection surface provided on the stage along the X direction, and a controller being operable to select yaw measurement information of the X measuring device for an alignment operation including the alignment measurement using the alignment scope, and being operable to select yaw measurement information of the Y measuring device for the scan exposure.

Un type exposition de balayage pour transférer un modèle sur un substrat par exposition de balayage. L'appareil inclut une étape pour déplacer le substrat dans une direction de Y correspondant à une direction du balayage, et dans une direction de X intersectant la direction du balayage, une place d'alignement pour effectuer la mesure pour l'alignement du substrat, à une position espacée, dans la direction de Y, d'une position où l'exposition du substrat doit être effectuée, un appareil de mesure de X pour effectuer la mesure de lacet de ladite étape au moyen d'une surface de réflexion de X fournie sur ladite étape le long de la direction de Y, un appareil de mesure de Y pour effectuer la mesure de lacet de l'étape au moyen d'une surface de réflexion de Y fournie sur l'étape le long de la direction de X, et un contrôleur étant fonctionnel choisir l'information de mesure de lacet de l'appareil de mesure de X pour une opération d'alignement comprenant la mesure d'alignement en utilisant la portée d'alignement, et étant fonctionnel choisir l'information de mesure de lacet de l'appareil de mesure de Y pour l'exposition de balayage.

 
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< Camera operation apparatus

< Optical element with alignment mark, and optical system having such optical element

> Image forming system, image forming apparatus, control method thereof, image forming method, and storage medium

> Image processing apparatus, image processing method and memory medium

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