In a reflectometer arrangement and a method for determining the reflectance
of selected measurement locations on measurement objects reflecting in a
spectrally dependent manner, the object of the invention is to reduce the
time for measuring a measurement object with a robust and simple
measurement structure to such an extent that compact radiation sources
with low output compared to a synchrotron can be used at the site of
production or of use of the measurement object to characterize the object
characteristics in a manner suited to series production. A measurement
beam bundle proceeding from a polychromatically emitting radiation source
is directed onto the measurement location of the measurement object
sequentially in modified manner by impressing spectral reference
reflection characteristics and the radiation reflected from every
measurement location is detected integrally. The arrangement and the
method can be used with surfaces which reflect in a spectrally dependent
manner and which are designed particularly for radiation in the extreme
ultraviolet range.
En un arreglo del reflectómetro y un método para determinar la reflexión de localizaciones seleccionadas de la medida en los objetos de la medida que reflejan de una manera espectral dependiente, el objeto de la invención es reducir la época para medir un objeto de la medida con una estructura robusta y simple de la medida hasta tal punto que las fuentes compactas de la radiación con la salida baja comparada a un sincrotrón se pueden utilizar en el sitio de la producción o del uso del objeto de la medida de caracterizar las características del objeto de una manera satisfecha a la producción de la serie. Un paquete de la viga de la medida que procede de una fuente de la radiación polychromatically que emite es dirigido sobre la localización de la medida del objeto de la medida secuencialmente de manera modificada impresionando características espectrales de la reflexión de la referencia y la radiación reflejada de cada localización de la medida se detecta integralmente. El arreglo y el método se pueden utilizar con las superficies que reflejan de una manera espectral dependiente y que se diseñan particularmente para la radiación en la gama ultravioleta extrema.
