The invention encompasses methods of forming titanium-based mixed-metal
materials and zirconium-based mixed-metal materials utilizing one or more
of a reduction process, electrolysis process and iodide process. The
invention also encompasses a sputtering target comprising zirconium and
one or more elements selected from the group consisting of Al, B, Ba, Be,
Ca, Ce, Co, Cs, Dy, Er, Fe, Gd, Hf, Ho, La, Mg, Mn, Mo, Nb, Nd, Ni, Pr,
Sc, Sm, Sr, Ta, Ti, V, W, Y, and Yb. The invention also encompasses a
sputtering target comprising titanium and boron.
La invención abarca métodos de formar los materiales titanio-basados del mezclar-metal y los materiales circonio-basados del mezclar-metal que utilizan uno o más de un proceso de la reducción, del proceso de la electrólisis y del proceso del yoduro. La invención también abarca una blanco de la farfulla que abarca el circonio y unos o más elementos seleccionados del al que consiste en del grupo, B, Ba, esté, CA, ce, Co, cs, Dy, er, FE, Gd, Hf, Ho, la, magnesio, manganeso, MES, NOTA, Nd, Ni, banda, Sc, SM, sr, TA, ti, V, W, Y, y Yb. La invención también abarca una blanco de la farfulla que abarca el titanio y el boro.
