PROCESS CARTRIDGE, AN IMAGE FORMING APPARATUS, AND SYSTEM DESIGNED TO BLOCK ATTACHMENT OF A PROCESS CARTRIDGE TO AN APPARATUS FUNCTIONALLY DIFFERENT FROM THE APPARATUS TO WHICH THE PROCESS CARTRIDGE IS DESIGNED TO BE ATTACHED

   
   

A process cartridge is detachably attachable to the main body of an electrophotographic image forming apparatus having a laser beam applying member, a shutter for shutting off the optical path of a laser beam emitted from the laser beam applying member, a portion for moving the shutter to a retracted position retracted from a shutting-off position for shutting off the optical path, a main body frame provided upstream of the shutter with respect to the attachment direction of the process cartridge, and an opening portion provided in the main body frame. The cartridge includes an electrophotographic photosensitive drum, a process device for acting on the drum, and a cartridge abutting portion adapted, when the cartridge is to be attached to the main body of an apparatus functionally differing from the main body of the image forming apparatus, to abut against a main body frame provided on the main body of the functionally different apparatus to thereby block the attachment of the process cartridge.

Een procespatroon is detachably bevestigbaar aan het belangrijkste lichaam van een elektrofotografisch beeld dat apparaten vormt die een laserstraal hebben toepassend lid, een blind voor het afsluiten van de optische weg van een laserstraal die van de laserstraal wordt uitgezonden toepassend lid, plaatst een gedeelte voor het verplaatsen van het blind in een ingetrokken ingetrokken positie van sluiten-weg voor het afsluiten van de optische weg, een hoofdlichaamskader dat stroomopwaarts van het blind met betrekking tot de gehechtheidsrichting wordt verstrekt van de procespatroon, en een openingsgedeelte dat in het hoofdlichaamskader wordt verstrekt. De patroon omvat een elektrofotografische fotogevoelige trommel, een procesapparaat om op de trommel te handelen, en een patroon het grenzen aan aangepast gedeelte, wanneer de patroon aan het belangrijkste lichaam van een apparaat dat functioneel moet worden vastgemaakt van het belangrijkste lichaam van het beeld verschilt dat apparaten vormt, om tegen een hoofdlichaamskader te grenzen aan dat op het belangrijkste lichaam van de functioneel verschillende apparaten wordt verstrekt daardoor de gehechtheid van de procespatroon blokkeren.

 
Web www.patentalert.com

< HIGH-POWER SEMICONDUCTOR LASER ARRAY APPARATUS THAT OUTPUTS LASER LIGHTS MATCHED IN WAVELENGTH AND PHASE, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND MULTI-WAVELENGTH LASER EMITTING APPARATUS USING SUCH HIGH-POWER SEMICONDUCTOR LASER ARRAY APPARATUS

< Nonlinear transmission line integrated circuit

> Power control circuit for laser diode having wavelength compensation

> Stocker, exposure apparatus, device manufacturing method, semiconductor manufacturing factory, and exposure apparatus maintenance method

~ 00147