Method for thin film deposition matching rate of expansion of shadow mask to rate of expansion of substrate

   
   

A shadow mask material is selected so that the expansion characteristics of the shadow mask during thin film deposition closely match the expansion characteristics of the substrate. The shadow mask material is typically one with a low coefficient of thermal expansion (CTE). The shadow mask material must typically meet additional criteria, such as mechanical strength, feature quality, and dimensional accuracy criteria.

Een materiaal van het schaduwmasker wordt geselecteerd zodat de uitbreidingskenmerken van het schaduwmasker tijdens dunne filmdeposito dicht de uitbreidingskenmerken van het substraat aanpassen. Het materiaal van het schaduwmasker is typisch één met een lage coëfficiënt van thermische uitbreiding (CTE). Het materiaal van het schaduwmasker moet aan extra criteria, zoals mechanische sterkte, eigenschapkwaliteit, en dimensionale nauwkeurigheidscriteria typisch voldoen.

 
Web www.patentalert.com

< Method of packaging and assembling micro-fluidic device

< Process to form narrow write track for magnetic recording

> Method and structure for microfluidic flow guiding

> Method of fabricating a microstructure

~ 00146