As the recording density of magnetic disk drives approaches 100
Gbits/in.sup.2, write track lengths of about 0.10 microns will be
required. This cannot be accomplished using conventional photolithography.
The present invention solves this problem by first forming on the bottom
pole of the write head a cavity in a layer of photoresist, using
conventional means. A seed layer of non-magnetic material is electrolessly
laid down, following which a second layer of photoresist is deposited and
patterned to form a second cavity that symmetrically surrounds the first
one, thereby forming a mold around it. Ferromagnetic metal is then
electro-deposited in this mold to form the top magnetic pole. Following
the removal of all photoresist and a brief selective etch of the bottom
pole, an extremely narrow write head is obtained.
Como la densidad de grabación de los accionamientos de disco magnético acerca a 100 Gbits/in.sup.2, escriba las longitudes de la pista de cerca de 0.10 micrón será requerido. Esto no se puede lograr usando fotolitografía convencional. La actual invención soluciona este problema primero formando en el poste inferior de la cabeza de escribir una cavidad en una capa de photoresist, usando medios convencionales. Una capa de la semilla de material no magnético electrolessly se coloca, siguiendo que una segunda capa de photoresist se deposita y está modelada para formar una segunda cavidad que rodee simétricamente primer, de tal modo formando un molde alrededor de ella. El metal ferromagnético entonces electro-se deposita en este molde para formar el polo magnético superior. Después del retiro de todo el photoresist y de un breve grabado de pistas selectivo del poste inferior, se obtiene un extremadamente estrecho escribe la cabeza.
