A system and method are disclosed for monitoring characteristics of a
rotating substrate. As the substrate rotates in an environment, an
incident light beam is emitted onto the substrate near an axis about which
the substrate rotates. The emission of the incident beam is controlled as
a function of the angular orientation of the substrate, so that the
incident beam selectively interrogates a central region of the substrate
to facilitate measuring and/or inspecting characteristics of the
substrate.
Ein System und eine Methode werden für die Überwachung von von Eigenschaften eines drehenden Substrates freigegeben. Während das Substrat in ein Klima sich dreht, wird ein Lichtstrahl des Ereignisses auf das Substrat nahe einer Mittellinie ausgestrahlt, über die das Substrat sich dreht. Die Emission des Ereignislichtstrahls wird als Funktion der eckigen Lagebestimmung des Substrates gesteuert, damit der Ereignislichtstrahl selektiv eine zentrale Region des Substrates abfragt, um Eigenschaften, des Substrates zu messen und/oder zu kontrollieren zu erleichtern.
