To generate sets of coefficients for use in optical metrology of
semiconductor structures, at least three optical metrology signals for a
set of parameters are obtained. The optical metrology signals are
indicative of light diffracted from a semiconductor structure, and a value
of at least one parameter of the set of parameters is varied to produce
each signal. Functional relationships between the at least three optical
metrology signals are obtained, the functional relationships including at
least three coefficient values. At least three sets of coefficients from
the at least three coefficient values of the functional relationships are
determined.
Pour produire des ensembles de coefficients pour l'usage en métrologie optique des structures de semi-conducteur, au moins trois signaux optiques de métrologie pour un ensemble de paramètres sont obtenus. Les signaux optiques de métrologie sont indicatifs de la lumière diffractée d'une structure de semi-conducteur, et une valeur au moins d'un paramètre de l'ensemble de paramètres est changée pour produire chaque signal. Des rapports fonctionnels entre les au moins trois signaux optiques de métrologie sont obtenus, les rapports fonctionnels comprenant au moins trois valeurs de coefficient. Au moins trois ensembles de coefficients à partir des au moins trois valeurs de coefficient des rapports fonctionnels sont déterminés.
