The present invention relates to a method and apparatus for testing electrical traces wherein ultraviolet wavelengths from a laser source and visible wavelengths from a scanning camera are focused to a common focal plane. In a first embodiment of the method and apparatus, the wavelengths are commonly focused using an auxiliary lens having a power sufficient to accommodate the difference between the focusing plane of the ultraviolet laser source and the scanning camera. In a second embodiment, the wavelengths are commonly focused by moving the camera optics of the scanning camera relative to its visible light source. Both of these methods and apparatuses employ a fused silica lens system, avoiding the use of calcium fluoride.

La actual invención se relaciona con un método y un aparato para probar rastros eléctricos en donde las longitudes de onda ultravioletas de una fuente de laser y las longitudes de onda visibles de una cámara fotográfica de la exploración se enfocan a un plano focal común. En una primera encarnación del método y del aparato, las longitudes de onda se enfocan comúnmente usando una lente auxiliar que tiene una energía suficiente acomodar la diferencia entre el plano que se enfoca de la fuente de laser ultravioleta y la cámara fotográfica de la exploración. En una segunda encarnación, las longitudes de onda son enfocadas comúnmente moviendo la óptica de la cámara fotográfica de la cámara fotográfica de la exploración concerniente a su fuente de luz visible. Both.of.these métodos y aparatos emplean un sistema fundido de la lente de la silicona, evitando el uso del fluoruro del calcio.