A sputtering target made of Ag.sub.x Ma.sub.y Mb.sub.z or Cu.sub.x Ma.sub.y Mb.sub.z, where x>50 at % and Ag or Cu are a first metal, Ma is a second metal and Mb is a third metal is used in a method for manufacturing data storage disks. The method of manufacture includes providing a substrate, providing a spacer layer of a material transmitting light of a selected wavelength onto a surface of the substrate, applying a first layer of a first metal alloy between the substrate and spacer layer, providing a second layer of a second metal alloy on the spacer layer, and depositing the first and second metal alloys so that one of the first and second layers is semi-transparent with respect to the light. The first and second alloys have at least one common metal provided in particular fractions of the alloys.

Целью sputtering сделанной Ag.sub.x Ma.sub.y Mb.sub.z или Cu.sub.x Ma.sub.y Mb.sub.z, где х 50 на % и ag или cu будут первый металл, ma будет второй металл и mb будет третий металл использован в методе для изготовлять диски хранений данных. Метод изготовления вклюает обеспечивать субстрат, обеспечивающ слой прокладки материального передавая света выбранной длины волны на поверхность субстрата, прикладывая первый слой первого сплава металла между субстратом и слой прокладки, обеспечивая второй слой второго сплава металла на слое прокладки, и депозируя первые и вторые сплавы металла так, что один из первых и вторых слоев будет семи-prozracn по отношению к свету. Первые и вторые сплавы имеют по крайней мере одним общим части обеспеченные металлом в частности сплавов.