Disclosed is an electrostatic chuck comprising a ceramic dielectric layer having a surface for placing thereon a work that is to be held, and an electrode provided on a surface opposite to the surface of the ceramic dielectric layer for placing the work thereon, wherein: the placing surface of the ceramic dielectric layer is sectionalized into an outer peripheral region and a central region by gas injection grooves extending in a circumferential manner; the surface roughness Ra(o) of the outer peripheral region of the placing surface and the surface roughness Ra(i) ot the central region satisfy the following conditions: 0.6.ltoreq.Ra(i).ltoreq.1.5 .mu.m Ra(o).ltoreq.0.7 .mu.m Ra(i).gtoreq.Ra(o) and the outer peripheral region of the placing surface is higher than the inner peripheral region by not less than 0.6 .mu.m. The electrostatic chuck holds the substrate with a large adsorptive force, maintains evenness in the heat distribution of the substrate, enables the substrate to be quickly separated away from the chuck, and permits the gas to leak little.

Gegeben eine elektrostatische Klemme frei, die eine keramische dielektrische Schicht enthält, die eine Oberfläche für eine Arbeit, die hat gehalten werden soll, und eine Elektrode darauf setzen, die auf einer Oberfläche gegenüber der Oberfläche der keramischen dielektrischen Schicht für die Arbeit darauf setzen bereitgestellt wird, worin: die setzenoberfläche der keramischen dielektrischen Schicht ist sectionalized in eine äußere Zusatzregion und in eine zentrale Region durch die Gaseinspritzungnuten, die in einer Umfangsweise verlängern; die Oberflächenrauheit Ra(o) der äußeren Zusatzregion der setzenoberfläche und das Oberflächenrauheit Ra(i) ot die zentrale Region erfüllen die folgenden Bedingungen: 0.6.ltoreq.Ra(i).ltoreq.1.5 mu.m Ra(o).ltoreq.0.7 mu.m Ra(i).gtoreq.Ra(o) und die äußere Zusatzregion der setzenoberfläche ist höher als die innere Zusatzregion durch nicht weniger als 0.6 mu.m. Die elektrostatische Klemme hält das Substrat mit einer großen bindenden Kraft, behält Ebenheit in der Hitzeverteilung des Substrates bei, ermöglicht dem Substrat, weg von der Klemme schnell getrennt zu werden und ermöglicht das Gas, wenig auszulaufen.