An apparatus and a method of depositing a dielectric material film, including steps of initiating a process of depositing a dielectric material film under at least one controllable initial condition in an apparatus comprising a dielectric material deposition chamber and a spectroscopic ellipsometer; and measuring, by the spectroscopic ellipsometer, at least one ellipsometric parameter of the dielectric material film during the process of depositing the film.

Um instrumento e um método de depositar uma película material dieléctrica, including etapas de iniciar um processo de depositar uma película material dieléctrica sob ao menos uma condição inicial controllable em um instrumento que compreende uma câmara material dieléctrica do deposition e um ellipsometer spectroscopic; e medindo, pelo ellipsometer spectroscopic, ao menos um parâmetro ellipsometric da película material dieléctrica durante o processo de depositar a película.