Apparatus and methods for removing particles from a surface of a semiconductor wafer or optical component using a carbon dioxide snow spray directed at the wafer or component while simultaneously irradiating the surface with a laser beam. The apparatus comprises a carbon dioxide jet spray cleaning system disposed within an environmental cleaning station of a processing system that processes the wafer or component. The processing system is a conveyorized system wherein a conveyor belt or web transports wafers or components from processing station to processing station. The cleaning station includes a recirculating blower system, a laminar flow screen, a high efficiency particulate air filter, and a ducting system for recirculating purified air or inert gas. The cleaning station contains a jet spray nozzle that produces a carbon dioxide snow spray. The jet spray nozzle is coupled by way of a manifold to a liquid carbon dioxide tank that supplies liquid carbon dioxide to the jet spray nozzle. The wafer or component is grounded to prevent static charge buildup. A carbon dioxide laser, operating at 10.6 microns, produces a laser beam that is generally aligned with the carbon dioxide snow spray so that the beam and spray overlap. The laser beam heats the surface of the wafer or component to compensate for the cooling effects of the carbon dioxide snow.

Le matériel et les méthodes pour enlever des particules d'une surface d'une gaufrette de semi-conducteur ou d'un composant optique employant un pulvérisateur de neige d'anhydride carbonique ont dirigé à la gaufrette ou au composant tout en simultanément irradiant la surface avec un rayon laser. L'appareil comporte un anhydride carbonique voyage en jet le système de nettoyage de jet disposé dans une station environnementale de nettoyage d'un système de traitement qui traite la gaufrette ou le composant. Le système de traitement est un système sur courroie transporteuse où une bande de conveyeur ou un enchaînement transporte des gaufrettes ou des composants de traiter la station à traiter la station. La station de nettoyage inclut un système de recyclage de ventilateur, un écran laminaire d'écoulement, un filtre à air à air particulaire de rendement élevé, et un système de canalisation pour recycler l'air ou le gaz inerte épuré. La station de nettoyage contient un bec de pulvérisation de voyager en jet qui produit un pulvérisateur de neige d'anhydride carbonique. Le bec de pulvérisation de voyager en jet est couplé par une tubulure à un réservoir liquide d'anhydride carbonique qui fournit l'anhydride carbonique liquide au bec de pulvérisation de voyager en jet. La gaufrette ou le composant est fondue pour empêcher l'habillage statique de charge. Un laser d'anhydride carbonique, fonctionnant à 10.6 microns, produit un rayon laser qui est généralement aligné avec le jet de neige d'anhydride carbonique de sorte que le faisceau et le jet recouvrent. Le rayon laser chauffe la surface de la gaufrette ou le composant pour compenser les effets de refroidissement de l'anhydride carbonique neigent.