Short-wavelength photons are used to ablate material from a low work function target onto a suitable substrate. The short-wavelength photons are at or below visible wavelength. The elemental composition of the deposit is controlled by the composition of the target and the gaseous environment in which the ablation process is performed. The process is carried out in a deposition chamber to which a short-wavelength laser is mounted and which includes a substrate holder which can be rotated, tilted, heated, or cooled. The target material is mounted onto a holder that spins the target during laser ablation. In addition, the deposition chamber is provided with a vacuum pump, an external gas supply with atomizer and radical generator, a gas generator for producing a flow of molecules on the substrate, and a substrate cleaning device, such as an ion gun. The substrate can be rotated and tilted, for example, whereby only the tip of an emitter can be coated with a low work function material.

Short-wavelength fotonen worden gebruikt om materiaal van een laag doel van de het werkfunctie op een geschikt substraat weg te nemen. De short-wavelength fotonen zijn bij of onder zichtbare golflengte. De elementaire samenstelling van de storting wordt gecontroleerd door de samenstelling van het doel en het gasachtige milieu waarin het ablatieproces wordt uitgevoerd. Het proces wordt uitgevoerd in een depositokamer waaraan een short-wavelength laser wordt opgezet en die een substraathouder omvat wat kan worden geroteerd, overgeheld, verwarmd, of gekoeld. Het doelmateriaal wordt opgezet op een houder die het doel tijdens laserablatie spint. Bovendien wordt de depositokamer voorzien van een vacuümpomp, een externe gaslevering met verstuiver en radicale generator, een gasgenerator voor het veroorzaken van een stroom van molecules op het substraat, en een substraat schoonmakend apparaat, zoals een ionenkanon. Het substraat kan worden geroteerd en worden overgeheld, bijvoorbeeld, waardoor slechts het uiteinde van een zender met een laag materiaal van de het werkfunctie kan worden met een laag bedekt.