A thulium doped silica based glass capable of supporting lasing activity including Tm.sup.3+ as a lasing species disposed in a host composition, including oxides of germanium, silicon and tantalum. The preferred concentration of silicon in the host composition being between 15-25 weight percent. The preferred concentration of germanium in the host composition being between 0.1-1 weight percent. The preferred concentration of tantalum in the host composition is greater than 15 weight percent. The preferred concentration of thulium ions being in the range of 500-1000 parts per million by weight.

Um thulium doped o vidro baseado silicone capaz de suportar a atividade lasing including Tm.sup.3+ como uma espécie lasing disposta em uma composição do anfitrião, including óxidos do germânio, do silicone e do tantalum. A concentração preferida do silicone na composição do anfitrião que está entre por cento de 15-25 pesos. A concentração preferida do germânio na composição do anfitrião que está entre por cento de 0.1-1 peso. A concentração preferida do tantalum na composição do anfitrião é mais grande de por cento de 15 pesos. A concentração preferida dos íons do thulium que estão na escala de 500-1000 parte por milhão pelo peso.