A method and apparatus for the manufacture of circuits for a large display device using stitch exposure. In the peripheral region of a circuit pattern on a mask, the method of stitch exposing provides for a joining of pairs of stitch regions in order to join in an interfitting state such that a smaller mask can be combined to form a larger display device. By causing the corresponding positional relationship of mask and plate to change in a direction in which a pair of stitch regions face each other, the arrangement of respectively formed pattern counterparts, after being placed in a mutually complementary interfitting relationship, are transferred so as to be joined to the respective stitch region of a circuit pattern region periphery already transferred onto the plate.

Eine Methode und ein Apparat für die Herstellung der Stromkreise für ein großes Sichtanzeigegerät mit Heftung Belichtung. In der Zusatzregion eines Stromkreismusters auf einer Schablone, stellt die Methode Heftung des Herausstellens für ein Verbinden von Paaren Heftung Regionen zur Verfügung, um in einem interfitting Zustand so zu verbinden, daß eine kleinere Schablone kombiniert werden kann, um ein größeres Sichtanzeigegerät zu bilden. Indem man das entsprechende Positions-Verhältnis der Schablone und der Platte zur Änderung in einer Richtung verursacht, in der ein Paar Heftung Regionen sich gegenüberstellen, werden die Anordnung für beziehungsweise gebildete Mustergegenstücke, nachdem man in ein gegenseitig ergänzendes interfitting Verhältnis gelegt worden ist, gebracht, damit zur jeweiligen Heftung Region einer Stromkreismuster-Regionperipherie verbunden zu werden, die bereits auf die Platte gebracht wird.