A transfer chamber is provided. The transfer chamber has a temperature adjustment plate located in an upper portion of the chamber, a substrate handler located in a lower portion of the chamber, and a rotatable substrate carriage adapted so as to raise and lower between an elevation above a substrate supporting surface of the temperature adjustment plate, and an elevation below a substrate supporting blade of the substrate handler. The rotatable substrate carriage is adapted to transfer a substrate to and from the substrate supporting surfaces of the temperature adjustment plate, and of the substrate handler blade.

Камера перехода обеспечена. Камера перехода имеет плиту регулировки температуры расположенной в верхней части камеры, укротителе субстрата расположенном в более низкой части камеры, и ротатабельном экипаже субстрата приспособленном для того чтобы поднять и понизить между высотой над поверхностью субстрата поддерживая плиты регулировки температуры, и высотой под лезвием субстрата поддерживая укротителя субстрата. Ротатабельный экипаж субстрата приспособлен для того чтобы перенести субстрат to and from поверхности субстрата поддерживая плиты регулировки температуры, и лезвия укротителя субстрата.

 
Web www.patentalert.com

< Protective gas shield apparatus

> Computer implemented method and program for automating flip-chip bump layout in integrated circuit package design

~ 00076