A chemical amplifying type positive resist composition which provides a
resist pattern having an exceedingly improved line edge roughness, and is
excellent in various resist performances such as dry etching resistance,
sensitivity and resolution; and comprises:
(A) an acid generator containing (a) a sulfonium salt represented by the
following formula (I):
##STR1##
wherein Q.sup.1 and Q.sup.2 is alkyl or a cycloalkyl, or Q.sup.1 and
Q.sup.2 form, together with a sulfur atom to which Q.sup.1 and Q.sup.2 are
adjacent, an heteroalicyclic group; Q.sup.3 represents a hydrogen atom,
Q.sup.4 represents alkyl or a cycloalkyl, or Q.sup.3 and Q4 form, together
with a CHC(O) group to which Q.sup.3 and Q4 are adjacent, a
2-oxocycloalkyl group; and Q.sup.5 SO.sub.3.sup.- represents an
organosulfonate ion, and (b) at least one onium salt selected from a
triphenylsulfonium salt represented by the following formula (IIa), and a
diphenyliodonium salt represented by the following formula (IIb):
##STR2##
wherein P.sup.1 to P.sup.5 represent hydrogen, a hydroxyl group, alkyl, or
alkoxy; and P.sup.6 SO.sub.3.sup.- and P.sup.7 SO.sub.3.sup.- each
independently represent an organosulfonate ion; and
(B) a resin which has a polymerization unit having a group instable against
an acid, and is alkali-insoluble or -slightly soluble itself, but is
converted to alkali-soluble by the action of an acid.
Um tipo de amplificação químico positivo resiste a composição que fornece um teste padrão resistir que tem uma linha exceedingly melhorada aspereza da borda, e é excelente em vário resiste desempenhos tais como a resistência, a sensibilidade e a definição secas gravura a água-forte; e compreende: (A) um gerador ácido que contem (a) um sal do sulfonium representado pela seguinte fórmula (i): ## do ## STR1 wherein Q.sup.1 e Q.sup.2 são alkyl ou um cycloalkyl, ou o formulário Q.sup.1 e Q.sup.2, junto com um átomo do enxôfre a que Q.sup.1 e Q.sup.2 são adjacentes, um grupo heteroalicyclic; Q.sup.3 representa um átomo do hidrogênio, Q.sup.4 representa o alkyl ou um cycloalkyl, ou o formulário Q.sup.3 e Q4, junto com um grupo a que Q.sup.3 e Q4 são adjacentes, de CHC(O) um grupo 2-oxocycloalkyl; e Q.sup.5 SO.sub.3.sup. - representa um íon do organosulfonate, e (b) ao menos um sal do onium selecionado de um sal do triphenylsulfonium representado pela seguinte fórmula (IIa), e de um sal do diphenyliodonium representado pela seguinte fórmula (IIb): ## do ## STR2 wherein P.sup.1 a P.sup.5 representa o hidrogênio, um grupo do hydroxyl, o alkyl, ou o alkoxy; e P.sup.6 SO.sub.3.sup. - e P.sup.7 SO.sub.3.sup. - cada um representam independentemente um íon do organosulfonate; e (B) uma resina que tenha uma unidade da polimerização ter um grupo instable de encontro a um ácido, e é alcalóide-alkali-insoluble ou - ligeiramente soluble próprio, mas é convertido a alkali-soluble pela ação de um ácido.
