A processor for rinsing and drying of semiconductor substrates includes a process vessel contained within an outer containment vessel. A diluted organic vapor creates a Marangoni effect flow along the surface of processing liquid contained within the process vessel. The process vessel includes porous walls that allow residual chemicals, organic species, and other unwanted materials to flow from the process vessel to the outer containment vessel. The porous walls allow for the maintenance of a stable surface tension gradient to sustain a consistent Marangoni force for even drying. Replacement processing fluid is preferably introduced to the process vessel to prevent the build up of organic species in the surface layer of the processing fluid.

Um processador para enxaguar e secar de carcaças do semicondutor inclui uma embarcação process contida dentro de uma embarcação exterior do containment. Um vapor orgânico diluído cría um fluxo do efeito de Marangoni ao longo da superfície de processar o líquido contida dentro da embarcação process. A embarcação process inclui as paredes porosas que permitem que os produtos químicos residuais, a espécie orgânica, e outros materiais não desejados fluam da embarcação process à embarcação exterior do containment. As paredes porosas permitem a manutenção de um gradient estável da tensão de superfície para sustentar uma força consistente de Marangoni para a secagem uniforme. A recolocação que processa o líquido é introduzida preferivelmente à embarcação process para impedir acima a configuração da espécie orgânica na camada de superfície do líquido processando.