A transparent conductive film having a transparent oxide layer and a metal layer containing Ag, laminated in this order from a substrate side in a total of (2n+1) layers), wherein n is an integer of at least 1, wherein the transparent oxide layer contains ZnO and further contains In within a range of from 9 to 98 atomic % based on the sum of Zn and In, and a process for forming a transparent electrode.

Uma película condutora transparente que tem uma camada transparente do óxido e uma camada do metal que contem o AG, laminado nesta ordem de um lado da carcaça em um total das camadas (2n+1)), wherein n é um inteiro ao menos de 1, wherein a camada transparente do óxido contem ZnO e contem mais mais dentro dentro de uma escala de 9 98 % atômicos baseados na soma do zn e dentro, e um processo para dar forma a um elétrodo transparente.