The present invention relates to an air filter having an inorganic material layer in which the following adsorbent is fixed on the surface of the supporter using powder of an inorganic substance as a binder. That is, the adsorbent is prepared by impregnating a salt of an inorganic acid to powder of an inorganic substance consisting of at least one of diatom earth, silica, alumina, a mixture of silica and alumina, aluminum silicate, activated alumina, porous glass, activated clay, activated bentonite, or synthetic zeolite. The air filter according to the present invention can adsorb and remove both of gaseous basic impurities and gaseous organic impurities, thus making a very effective filter for manufacturing semiconductor and LCD.

La actual invención se relaciona con un filtro de aire que tiene una capa material inorgánica en la cual el adsorbente siguiente sea fijo en la superficie del partidario usando el polvo de una sustancia inorgánica como carpeta. Es decir, el adsorbente es preparado impregnando una sal de un ácido inorgánico al polvo de una sustancia inorgánica que consiste en por lo menos uno de tierra de la diatomea, de silicona, de alúmina, de una mezcla de la silicona y del alúmina, de silicato de aluminio, de alúmina activado, de cristal poroso, de arcilla activada, de bentonita activada, o de zeolita sintética. El filtro de aire según la actual invención puede fijar y quitar ambas por adsorcio'n impurezas básicas gaseosas e impurezas orgánicas gaseosas, así haciendo un filtro muy eficaz para el semiconductor de la fabricación y el LCD.

 
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> Aqueous quaternary ammonium hydroxide as a screening mask cleaner

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