This invention relates to the cleaning of objects that relate to semiconductor printing, such as, for example, screening masks. This invention is basically directed to removing, for example, an organic polymer-metal composite paste from screening masks used in printing conductive metal patterns onto ceramic green sheets in the fabrication of semiconductor packaging substrates. More particularly, this invention is concerned with the automated in-line cleaning of paste screening masks with an aqueous alkaline solution of a quaternary ammonium hydroxide as a more environmentally friendly alternative to non-aqueous organic solvents-based cleaning in screening operations for the production multilayer ceramic (MLC) substrates.

Deze uitvinding heeft op het schoonmaken van voorwerpen betrekking die op halfgeleiderdruk, zoals bijvoorbeeld, onderzoeksmaskers betrekking hebben. Deze uitvinding is fundamenteel geleid aan het verwijderen van, bijvoorbeeld, organisch een polymeer-metaal samengesteld deeg uit onderzoeksmaskers die in de druk van geleidende metaalpatronen worden gebruikt op ceramische groene bladen in de vervaardiging van halfgeleider verpakkende substraten. Meer in het bijzonder, is deze uitvinding betrokken met het geautomatiseerde in-line schoonmaken van de maskers van het deegonderzoek met een waterige alkalische oplossing van een quaternair ammoniumhydroxyde als milieuvriendelijker alternatief aan het niet-waterachtige organische op oplosmiddel-gebaseerde schoonmaken in onderzoeksverrichtingen voor de productie multilayer ceramische (MLC) substraten.