Disclosed is a novel aqueous developer solution used in the development treatment of an actinic ray-sensitive resist for the manufacture of, for example, semiconductor devices, which is capable of giving a patterned resist layer free from the troubles of film residue or scum deposition in any finest patterning. The developer solution contains, in addition to a nitrogen-containing organic basic compound, e.g., tetramethyl ammonium hydroxide, dissolved in an aqueous medium as the solvent, an anionic surface active agent which is a diphenyl ether compound having at least one ammonium sulfonate group, such as an ammonium alkyl diphenylether sulfonate, in a concentration of 0.05 to 5% by weight.

Se divulga una novela que la solución de revelador acuosa usada en el tratamiento del desarrollo de un rayo-sensible actínico resiste para la fabricación de, por ejemplo, los dispositivos de semiconductor, que es capaz de dar modelado resisten la capa libre de los apuros de la deposición del residuo o de la espuma de la película en modelar más fino. La solución de revelador contiene, además de un compuesto básico orgánico nitrogen-containing, e.g., hidróxido de amonio tetramethyl, disuelto en un medio acuoso como el solvente, un agente tensoactivo aniónico que sea un compuesto diphenyl del éter que tiene por lo menos un grupo del sulfonate del amonio, tal como un sulfonate alkyl del diphenylether del amonio, en una concentración de 0.05 a el 5% por el peso.