A method for achieving improved piezoelectric films for use in a resonator device is disclosed. The method is based on applicant's recognition that the texture of a piezoelectric film (e.g., as used in a piezoelectric resonator) is directly affected by the surface morphology of the underlying electrode, and additionally, the surface morphology of the electrode is affected by the surface morphology of the underlying oxide layer or Bragg stack. Accordingly, the invention comprises a method of making a device having a piezoelectric film and electrode comprising controlling the deposition and surface roughness of the electrode and optionally, the Bragg stack.

Um método para conseguir películas piezoelectric melhoradas para o uso em um dispositivo do ressonador é divulgado. O método é baseado no recognition do pretendente que a textura de uma película piezoelectric (por exemplo, como usado em um ressonador piezoelectric) é afetada diretamente pela morfologia de superfície do elétrodo subjacente, e adicionalmente, a morfologia de superfície do elétrodo é afetada pela morfologia de superfície da camada do óxido ou da pilha subjacente de Bragg. Conformemente, a invenção compreende um método de fazer um dispositivo que tem uma película e um elétrodo piezoelectric que compreendem controlando a aspereza do deposition e da superfície do elétrodo e opcionalmente, a pilha de Bragg.