The present invention generally provides an apparatus and a method for
inspecting a substrate in a processing system. In one aspect, a light
source is used in conjunction with an optical receiving device, such as a
camera having a CCD, to illuminate and inspect a substrate for various
optical signatures. The data collected during an inspection cycle is
processed to determine substrate topography information. In one
embodiment, the data is used to generate mean values indicative of signal
intensity and/or color. One aspect provides for specular signature
analysis where a reference histogram is subtracted from a test substrate
histogram. The mean values are then compared to reference values to
determine topographical conditions. Advantageously, a data processing
system may be used to collect the data, perform the specular signature
analysis, and determine the resultant processing conditions.
Η παρούσα εφεύρεση παρέχει γενικά μια συσκευή και μια μέθοδο για ένα υπόστρωμα σε ένα σύστημα επεξεργασίας. Σε μια πτυχή, μια πηγή φωτός χρησιμοποιείται από κοινού με μια οπτική λαμβάνουσα συσκευή, όπως μια φωτογραφική μηχανή που έχει ένα CCD, για να φωτίσει και να επιθεωρήσει ένα υπόστρωμα για τις διάφορες οπτικές υπογραφές. Το στοιχείο που συλλέγεται κατά τη διάρκεια ενός κύκλου επιθεώρησης υποβάλλεται σε επεξεργασία για να καθορίσει τις πληροφορίες τοπογραφίας υποστρωμάτων. Σε μια ενσωμάτωση, το στοιχείο χρησιμοποιείται για να παραγάγει τις μέσες τιμές ενδεικτικές της έντασης ή/και του χρώματος σημάτων. Μια πτυχή προβλέπει την specular ανάλυση υπογραφών όπου ένα ιστόγραμμο αναφοράς αφαιρείται από ένα ιστόγραμμο υποστρωμάτων δοκιμής. Οι μέσες τιμές συγκρίνονται έπειτα με τις τιμές αναφοράς για να καθορίσουν τους τοπογραφικούς όρους. Ευνοϊκά, ένα σύστημα επεξεργασίας δεδομένων μπορεί να χρησιμοποιηθεί για να συλλέξει τα στοιχεία, να εκτελέσει τη specular ανάλυση υπογραφών, και να καθορίσει τους επακόλουθους όρους επεξεργασίας.
