A method and system of interference lithography (also known as
interferometric lithography or holographic lithography) which utilizes
phase-locked, scanning beams (so-called scanning beam interference
lithography, or SBIL). The invention utilizes a high-precision stage that
moves a substrate under overlapped and interfering pairs of coherent
beams. The overlapped beams interfere, generating fringes, which form a
pattern "brush" for subsequent writing of periodic and quasi-periodic
patterns on the substrate. The phase of the fringes in the overlapped
region is phase-locked to the motion of the precision stage. The invention
includes methods for forming, overlapping, and phase-locking interfering
pairs of beams on a variety of substrates; methods for measuring and
controlling the period, phase, and angular orientation of fringes
generated by the overlapping beams; and methods for measuring and
controlling the effects of stage mechanical and thermal drift and other
disturbances during the writing process.
Метод и система литографирования взаимодействия (также известного как интерферометрическое литографирование или голографическое литографирование) использует участк-phase-locked, просматривая лучи (so-called литографирование взаимодействия луча скеннирования, или SBIL). Вымысел использует высокоточный этап двигает субстрат под, котор перекрыли и мешав пары когерентных лучей. , котор перекрыли лучи мешают, производящ края, которые формируют картину "щетку" для затем сочинительства периодических и цуаси-periodiceskix картин на субстрате. Участок краев в, котор перекрыли зоне участк-phase-locked к движению этапа точности. Вымысел вклюает методы для формировать, перекрывать, и участк-fiksirovat6 мешая пары лучей на разнообразии субстратов; методы для измерять и контролировать период, участок, и угловую ориентацию краев произведенных перекрывая лучами; и методы для измерять и контролировать влияния этапа механически и термально смещение и другие помехи во время процесса сочинительства.
