A photomask and method of patterning a photosensitive layer using a
photomask, the photomask including a substrate and a film coupled to
substrate. The film is etched with a phase shifted assist feature, a low
aspect ratio assist feature or phase shifted low aspect primary features.
Photomask и метод делать по образцу фоточувствительный слой использующ photomask, photomask включая субстрат и пленку соединили к субстрату. Пленка вытравлена с перенесенной участком характеристикой assist, низкой характеристикой assist коэффициента сжатия или перенесенными участком характеристиками низкого аспекта главным образом.
