An image sensor includes a substrate having photosensitive areas; an
insulator spanning the substrate; and a first and second layer of a
multi-layer metallization structure, wherein the first layer forms light
shield regions over selected portions of the photosensitive area as well
forming circuit interconnections and barrier regions to prevent spiking
into the substrate or gates at contacts in the non-imaging area; and the
second layer spanning the interconnections and barrier regions of the
first layer only over the non-imaging areas and the second layer overlays
edges of the first layer.
Un sensore di immagine include un substrato che ha zone fotosensibili; un isolante che misura il substrato; e un primo e secondo strato di una struttura a più strati di metalizzazione, in cui l'eccedenza chiara di regioni dello schermo delle prime forme di strato ha selezionato le parti della zona fotosensibile pure che forma le interconnessioni del circuito e le regioni della barriera per evitare che chioda nel substrato o nei cancelli ai contatti nella zona di non-formazione immagine; ed il secondo strato che misura le interconnessioni e le regioni della barriera del primo strato soltanto sopra le zone di non-formazione immagine ed i secondi bordi delle sovvrapposizioni di strato del primo strato.
