A wafer edge exposure apparatus is provided with an optical section for
radiating exposure light onto the edge of a semiconductor wafer. The
optical section is provided with a focus sensor for sensing a distance
from the lower end of the optical section to the edge of the semiconductor
wafer. There is provided a position control mechanism for moving the
optical section vertically on the basis of a value detected by the focus
sensor such that the distance matches a focal distance of the optical
section.
Un aparato de exposición del borde de la oblea se proporciona una sección óptica para irradiar la luz de la exposición sobre el borde de una oblea de semiconductor. La sección óptica se proporciona un sensor del foco para detectar una distancia del extremo inferior de la sección óptica al borde de la oblea de semiconductor. Se proporciona un mecanismo del control de la posición para mover la sección óptica verticalmente en base de un valor detectado por el sensor del foco tales que la distancia empareja una distancia focal de la sección óptica.
